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  • SPB5/plusRIE反应离子刻蚀机
    SPB5/plusRIE反应离子刻蚀机

    CIF 推出 RIE 反应离子刻蚀机,采用 RIE 反应离子诱导激发方式,实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所,微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低,性价比高,易维护,处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行 RIE 反应离子刻蚀。

    时间:2024-03-26型号:SPB5/plus访问量:479
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